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创想VL-5000金属检测直读光谱分析仪

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创想VL-5000金属检测直读光谱分析仪

创想VL-5000金属检测直读光谱分析仪

VL-5000光谱仪可应用于固体金属样品的元素定量分析及牌号鉴定。光学系统采用CCD/CMOS检测器,光谱范围覆盖全部典型材料。仪器装备有开放式氩气冲洗火花台设计,适合不同形状和尺寸的样品分析。

光学系统

VL-5000直读光谱仪凭借其高性能及可靠设计,以及创新光学系统,可确保对重要元素的精确鉴定和痕量分析,仪器拥有极低的检出限及优异的长期稳定性;分析结果准确,重现性好。创想仪器运用检测器与数字读出技术相结合,使仪器整体设计优于传统的电倍增管技术,已逐渐成为金属制造业加工业铸造业的重要选择。

VL-5000直读光谱仪采用的光学系统设计,其中结合了带优化像素的固态检测器技术,好的光栅分光技术,代表了数码时代的直读光谱技术。

分光系统

分光系统由于采用多块线阵CCD/CMOS作为检测器,实现分析波段内的全谱接收,各个元素分别采用多条谱线分析,综合输出,动态范围大,结果准确。放置的探测器满足分析波段内的所有谱线接收无一遗漏,实现同一元素多条谱线同时测定,自动选择输出。

激发系统

VL-5000光谱仪在每次激发时,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,除繁琐的波峰扫描工作。全谱技术自动描迹调整光路,激发样品时,仪器自动识别每块CCD/CMOS上的特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定。消除因温度、气压、震动等变化而产生的光谱漂移;而传统使用光电倍增管技术的光谱必须进行手动进精细调节,技术要求很高。全谱技术自动快速寻址,避免了费事费力的手动操作,也避免了人为误差。

基体

VL-5000光谱仪采用全谱直读技术,仪器可以非常方便增加谱线增加基体,在不添加硬件设施的情况下,即可实现多基体分析。客户可以在使用过程中根据实际需要在仪器上增加分析的基体及元素种类,这些工作可以在用户现场方便完成。相比同类采用PMT技术的光谱仪,则需要大范围改动硬件,同时由于初始仪器的配置限制,可能无法添加客户要求的基体或元素。

火花台设计

VL-5000光谱仪的火花台进行了全新的设计,除保留了传统火花台的优势外,针对新的应用需求作了相应的优化。火花台采取了密封式设计,整个火花台的结构坚固,在仪器持续使用高温火花激发的情况下保持火花台结构的稳定。

氩气系统设计

VL-5000光谱仪的火花台通过结构设计上的变化改进了氩气流的喷射方向,大大减少了火花激发残留物在火花台上的残留,同时使火花台的清洁和维护也变得更为简单。VL-5000光谱仪保留了开放式样品台的设计,使样品的放置及分析更加简便,样品处理也比传统光谱更加简单。除电极间隙外,无特别调整要求。

VL-5000光谱仪采用了独特的喷射电极技术(JET STREAM)。在激发状态下,电极周围会形成氩气喷射气流。这种技术会带来以下优势,激发点周围的氩气流保证了激发过程不受外界干扰节省了氩气的使用,降低了客户的使用成本。样品台无须密封,线材等小样品也可以非常方便的借助适配器进行分析。抽拉式前罩,使激发台的清理维护更加方便。

入射光路设计

VL-5000光谱仪的入射光路设计十分简洁。通过将入射光路与光室系统直接连接,两道透镜入射窗口确保灰尘与防护独立分开,维护清洗变得非常方便,客户可以在日常工作中自行进行操作。

电路系统

VL-5000光谱仪的电路系统进行了全新的设计。VL-5000光谱仪采用了同步实时数字读出技术,与传统的顺序读出技术相比,分析时间和数据的稳定性都会大大提高。VL-5000光谱仪采用了全数字等离子火花光源技术。所有的激发参数可通过用户界面由用户根据实际需求自定义进行设置。

VL-5000光谱仪将电路系统与光学系统进行了完全的分离,将电路系统统一置于仪器光室的外部分,这样的设计使仪器的散热功能大大提升,同时使仪器的后续维护也十分便捷。

VL-5000光谱仪的操作软件十分简单易学,全中文或英文菜单。没有任何光谱仪器知识背景的操作人员只需简单培训,就可进行仪器的使用。同时仪器的设计处处体现了以人为本的设计理念,使仪器的使用和维护处处体现人性化的关怀。

创想VL-5000金属检测直读光谱分析仪

创想VL-5000金属检测直读光谱分析仪


光学系统

①帕邢-龙格结构,罗兰圆光学系统

②探测器:CCD/CMOS

③光室温度:自动控制恒温:34℃土0.5℃外部入射窗口,方便清洗及更换

④漂移校正功能-得益于自动寻峰功能(精确度达到0.1像素)紫外波段灵敏度,⑤得益于全新改良的真空技术

数字等离子发生器

①全数字等离子火花光源技术

②高效得益于紧凑的设计和半导体控制技术高能预燃技术(HEPS)

③激发参数可通过用户界面由用户根据实际需求自定义进行设置

优化的样品台

①开放式样品台设计,满足大样品测试要求4mm样品台分析间隙

②“喷射电极”技术轻松应对小样品及复杂几何形状样品低

③氩气消耗,待机时:无须待机流量定制异性样品适配器

④不同基体无须更换火花台优化的杂质排出系统

⑤牢固的铜制样品台散热效果极佳

计算机及读出系统

①品牌电脑

②处理器:AMD双核64X25200+内存:1GB DDR 2

③硬盘:>250GB光驱: DVD

④显示器:19寸液晶显示器

数据输出

①数据以多种数据形式存储可接驳各种标准打印设备

②数据可通过互联网远程发送传输软件系统

Windows 7 / Windows10,中文或英文光谱仪操作软件,可选数据维护程序

尺寸

①台式:759mm(L)×665mm (W)× 391mm(H)

②重量:48kg

电源要求

AC 220V/50Hz

②最大功率400 w(主机350W,电脑30W)

待机功率60W

10A普通保险丝

氩气要求

①纯氩气.99.999%;氩气减压阀(专配减压阀)

②气压>4MPa;出口仪器气压0.5MPa

创想VL-5000金属检测直读光谱分析仪

创想VL-5000金属检测直读光谱分析仪


VL-5000直读光谱仪可以应用于铝合金分析,铸造厂质量控制品质检测,及金属工艺品的材质检测钢铁厂检测电力设备检测自动阀门检测,第三方实验室等。VL-5000直读光谱仪专业检测铁基,铝基,铜基等基体,基体可添加。

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